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Láseres N2

Nitrogen laserEl instituto de investigación científica de aparatos de descarga de gas «Plasma» produce un amplio grupo de láseres moleculares de descarga de gas con rellenado de nitrógeno.

Los láseres nitrogeníferos de la serie NPL son representantes de los láseres de descarga de gas que generan la irradiación forzada en los pasajes, electrónicos y vibratorios, de la molécula de nitrógeno en la zona ultravioleta del espectro, con las bandas principales: l=337,1 nm, l=357,7 nm, l=315,9 nm.
Hoy día están elaborados y se producen exitosamente láseres nitrogeníferos de impulso y periódicos con excitación longitudinal. Gracias a sus características únicas (corta longitud de la onda l=337 nm, poca duración del impulso 10 ns., alta potencia impulsiva de irradiación en 0,01-1ÌW) los láseres nitrogeníferos se utlilizan amplia y eficazmente en la microelectrónica, así como para fabricar y retocar máscaras de exposición, microesquemas integrales híbridos y resistencias peliculares, para su ajuste.

El láser nitrogenífero LGI-511 ha adquirido muy buena reputación en las instalaciones microelectrónicas. La corta longitud de la onda permite enfocar la irradiación en una pequeña mancha y elaborar los elementos al nivel de fracciones de micrometros, además, el máximo de sensibilidad de muchos tipos de laca fotosensible utilizados en la microelectrónica, se encuentra en esta zona.

El láser nitrogenífero LGI-505 se utiliza con éxito en las instalaciones de retoque de máscaras de exposición y en las instalaciones de ajuste de resistensias de pared delgada.